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半導(dǎo)體納米制造的良率基石與精度保障的MTL編碼器

更新時(shí)間：2026-01-26      瀏覽次數(shù)：116
當(dāng)半導(dǎo)體制程邁入 3nm 時(shí)代，晶圓表面哪怕微米級(jí)的瑕疵都可能導(dǎo)致整片報(bào)廢，而 Microtec Laboratory（MTL）40 余年的精密制造經(jīng)驗(yàn)，正成為半導(dǎo)體設(shè)備的 “精度安全鎖"。作為適配 IHI、尼康等行業(yè)的日本編碼器專家，MTL 以定制化精密方案，破解光刻、檢測(cè)、搬運(yùn)等核心環(huán)節(jié)的精度難題。
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核心優(yōu)勢(shì)與解決方案
真空潔凈環(huán)境專屬適配


  • 低釋氣材料與無(wú)油潤(rùn)滑設(shè)計(jì)： 杜絕污染物排放，適配超高真空（UHV）工況。
  • 耐高溫： 特殊材料選型，可應(yīng)對(duì)光刻設(shè)備 80℃以上的 bake-out 工藝需求。
  • 抗電磁干擾： PTFE 絕緣屏蔽線纜，確保信號(hào)在電磁干擾密集環(huán)境中零失真。
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    納米級(jí)精度控制
    • 高精度定位： 內(nèi)置編碼器可達(dá) 1 角秒定位精度，20bit 高分辨率輸出。
    • 晶圓檢測(cè)： 在 XY 軸控制中，定位誤差穩(wěn)定在 ±0.8μm 以內(nèi)，將缺陷漏判率從 0.3% 降至 0.08%。
    • 晶圓搬運(yùn)： 超小型編碼器（如 φ21mm 的 MDS-13 系列）集成于機(jī)械臂關(guān)節(jié)電機(jī)，實(shí)現(xiàn) ±0.01mm 的升降定位精度，避免晶圓碰撞損傷。
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